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磁控溅射靶源结构探讨
dongbeiren
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发表于 2008-3-18 16:15
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磁控溅射靶源结构探讨
关于磁控靶的结构,不同的厂家有自己的设计特色,但本人目前只了解一些原理性的东西,对于内部结构,溅射后,跑道是如何形成的,为什么这样形成?为什么不在真空室内建立一个大的均匀的(相对)的磁场,靶作为阴极(平面),基板作为阳极而不是每个靶单独配置一个磁场?那位大侠慷慨一些,告诉我这个新手?
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dongbeiren
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发表于 2008-4-23 16:18
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这东东比较敏感,看来还是没有朋友交流,大家共同进步嘛?
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