蓝宝石衬底的化学机械抛光技术的研究 PDF
王银珍,周圣明,徐 军
(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800)
摘要:介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响蓝宝石衬底化学
机械抛光的因素,阐述了CMP 的主要发展趋势:能定量确定最佳CMP 工艺,系统地研究CMP 工艺过程参数,建立完
善的CMP 理论模型,满足不同的工艺要求和应用领域,有效降低成本,提高产量。
关键词:蓝宝石;衬底;化学机械抛光
中图分类号:O786 文献标识码:A 文章编号:10002985X(2004) 0320441207
来源于<人工晶体学报>2004年第6期
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