镀AR時，製程溫度約80度C可行嗎？
因特殊需求，需要在B270玻璃上镀AR時的製程溫度只能約80度C，這有可能嗎? 製程條件有何特殊要求？[[i] 本帖最后由 victorrose 于 2008-5-14 20:25 编辑 [/i]]
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回复 #3 zzzz 的帖子
您的意思是可行的? 请问制程条件有何特殊要求？谢谢您。 一般条件不加热不IAD就能做到.你的条件如何?????????????? 那就溅射吧:call: [em09] 制程温度约80度C，使用IAD，结果用胶带一黏就掉。如果不用溅射，要如何达到？ 如果制程正常仍然发生脱膜，建议可以先观察一下膜层脱落的位置，从应力及边界结合力方面考虑一下。 如果制程正常仍然发生脱膜，建议可以先观察一下膜层脱落的位置，从应力及边界结合力方面考虑一下。
好象有点道理,先测下是哪层脱落的[em31] 用3M测试胶带一黏，所有的镀膜都掉落了。可能是哪里出了问题? 不太可能吧，就算在塑料上镀AR，也不是胶带可以粘下来的，最起友得反复N次才有可能撕下来的。
镀在玻璃上都能撕下来，估计你材料用得不对，可能最后一层用的MGF2类材料吧。 你得先说明你的工艺条件，
否则大家只能瞎分析 tio2+sio2+tio2+sio2+tio2+sio2 为啥不用TA?
基板是什么材料的?
层数太多?不能减少吗? TA 适合用来做AR?
基材为玻璃
层数不能减
谢谢您 蒸镀什么材料有些材料可以冷镀呀............................... 我的TA是指TA2O5了.
啥特殊要求啊?胶合件吧?
否则TI和玻璃的结合挺好的
先找找玻璃清洁方面的原因. 离子源可能没有用好，能否将你们离子源的使用过程描述描述 tio2+sio2+tio2+sio2+tio2+sio2 并使用IAD，我觉得不可能用3M测试胶带一黏就掉膜.镀膜工艺存在问题,你基片清洗得干净吗?
你离子源参数都设置了哪些? 我晕死，你那种工艺没问题，3M测试不会脱膜的。看镀前清洁度怎么样？不会是DP返油了吧？
鄙视MgF2的人是错误的，慢慢你们就会知道了。;P ;P ;P 所有膜都掉了？？是不是和基底的结合度不高啊，
能不能预镀一层sio2 脱膜应该不会吧，我想是TI的折射率做不高
提高附着力
需要不需要加个过渡层？ 用的啥离子源？如果用RF源的话，膜层也不至于这么差吧？ 都不加热都可以镀的，没有不可能的，只有想不到的。 用ZR+SI试一试,70度不加IAD,镀的膜用水煮都不掉膜.也有可能是基片的问题.页:
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